气相沉积技术原理及应用

定价:68.00

出版时间：2020-12

ISBN:9787502486587

本书可作为表面工程的本科生、研究生教材使用，亦可供真空表面技术人员阅读。本书分为两篇。第一篇从真空镀膜技术基础、物理气相沉积（PVD）薄膜生长成膜的原理出发，详细介绍了蒸发镀、溅射沉积和离子镀膜等各种PVD技术，对PVD技术的发展进行了总结和展望，最后对PVD技术在沉积硬质防护、减磨润滑、耐蚀防护和光电磁功能等方面的应用进行了归纳总结。第二篇从化学气相沉积（CVD）的技术基础出发，详细介绍了热CVD、等离子增强CVD（PECVD）、反应活化扩散CVD和其他新型CVD技术的技术原理和特征，对CVD技术沉积各种金属和陶瓷涂层，在硬质防护、高温防护和功能化方面的应用进行了归纳总结。

1.真空镀膜技术基础3

1.真空镀膜技术简介3

1.2真空镀膜系统3

1.3薄膜的表征9

2.PVD薄膜成膜原理17

2.1等离子体特性17

2.2凝结过程20

2.3薄膜的形核与生长21

2.4连续薄膜的形成24

2.5薄膜的微观结构25

3.蒸发镀技术29

3.1蒸发镀原理和蒸发源分类29

3.2电阻蒸发镀技术34

3.3电子束蒸发镀技术36

3.4感应加热蒸发镀技术38

4.溅射沉积技术40

4.1溅射原理40

4.2直流溅射50

4.3射频溅射51

4.4磁控溅射53

4.5高功率脉冲磁控溅射60

5.离子镀膜技术63

5.1离子镀技术的概述63

5.2空心阴极离子镀66

5.3电弧离子镀膜68

6.PVD薄膜材料及应用71

6.1硬质薄膜71

6.2减摩润滑薄膜75

6.3耐腐蚀薄膜79

6.4光电磁功能薄膜81

第.一篇参考文献83

第二篇化学气相沉积（CVD）技术

7.CVD技术基础93

7.1CVD技术的发展历程93

7.2CVD薄膜沉积反应类型95

7.3CVD薄膜生长热力学与动力学96

8.热CVD及等离子体增强CVD技术103

81热CVD技术103

8.2等离子体增强CVD技术（PECVD）108

9.反应活化扩散CVD技术115

9.1反应活化扩散CVD技术的原理115

9.2反应活化扩散CVD技术的分类117

9.3反应活化扩散CVD技术的应用118

10..其他CVD沉积技术133

10.1原子层沉积技术（ALD）133

10.2激光辅助CVD135

10.3有机金属CVD（MOCVD）140

11CVD涂层材料及应用148

11.1CVD金属涂层148

11.2CVD硬质防护涂层152

11.3CVD功能化涂层162

第二篇参考文献171