内容介绍
本研究主要针对纳米压印光刻技术开展专利导航分析，通过技术和产业调研，梳理了技术与产业发展现状及未来趋势，旨在为科技与产业界提供参考。从宏观、中观与微观三个层面，系统分析了全球及中国在纳米压印光刻领域的创新态势、专利布局、关键技术竞争格局以及行业巨头的核心专利技术路线，识别我国在该领域相较于全球领先国家的差距与优势，为未来产业创新发展、技术路径选择、知识产权风险规避和高价值专利布局提供决策支撑。
商品详情
纳米压印光刻技术专利分析
作 者:朱月仙 张娴 钟莹洁 王小玉 编著
定 价:88
出 版 社:知识产权出版社
出版日期:2026年04月01日
页 数:
装 帧:平装
ISBN:9787524503149
- 文轩九月图书旗舰店
- 特价好书，就在文轩网！
- 扫描二维码，访问我们的微信店铺
