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硅集成电路工艺基础(第二版) 关旭东 著 北京大学出版社 21世纪微电子学专业规划教材

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商品详情

书名:硅集成电路工艺基础(第二版)
定价:68.0
ISBN:978730124109702
作者:关旭东 著
版次:2
出版时间:2014-01

内容提要:
本书是《硅集成电路工艺基础》的第二版教材,作者在第一版的基础上系统的讲述了硅集成电路制造的基础工艺,加深了工艺物理基础和基本原理的介绍。增加了工艺集成例子的介绍。



作者简介:
关旭东 北京大学信息学院微电子系 职称:教授 研究方向:硅集成电路的设计和规划 主要作品:硅集成电路工艺基础 北京大学出版社

目录:
第一章 硅晶体和非晶体

第二章 氧化

第三章 扩散

第四章 离子注入

第五章 物理气相淀积

第六章 化学气相淀积

第七章 外延

第八章 光刻工艺

第九章 金属化与多层互联

第十章 工艺集成

第十一章 薄膜晶体管制造工艺
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