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定价:59.0
ISBN:9787030156143
作者:唐天同,王兆宏
版次:1
出版时间:2018-09
内容提要:
本书是关于集成光学的一本入门教材,系统而扼要地介绍了这一新兴学科的原理、材料、工艺与技术发展。
全书共分为8章,内容包括:集成光学的概念、发展现状和意义;平面介质光波导和耦合模理论;晶体在外场作用下的光学性质;集成光有源器件;集成光无源器件;集成光学器件使用的材料;集成光学器件的主要制作工艺及光波导参量的测试等。
本书适于高等院校电子科学与技术、光学工程、光电子技术、光信息科学技术及通信工程等专业高年级本科生作教材使用,也可供相关领域科技人员阅读参考。
目录:
序言
前言
第1章概论
1.1集成光学的概念
1.2集成光学的特点
1.3集成光学的发展和现状
1.4研究集成光学的意义
习题
参考文献
第2章平面介质光波导和耦合模理论
2.1平板光波导的射线光学分析
2.2平板光波导的波动方程分析
2.3条形光波导的波动方程分析
2.4耦合模理论
习题
参考文献
第3章晶体在外场作用下的光学性质
3.1晶体光学简介
3.2电光效应
3.3声光效应
3.4热光效应
3.5磁光效应
3.6非线性光学效应
习题
参考文献
第4章光有源器件
4.1半导体激光器和集成光源
4.2半导体光放大器
4.3集成光探测器
习题
参考文献
第5章集成光无源器件
5.1基本元件
5.2电光集成器件
5.3声光集成器件
5.4热光开关和调制器
5.5磁光隔离器和环行器
习题
参考文献
第6章系统集成
6.1光集成的方式
6.2光集成的类型
6.3光集成的技术途径
习题
参考文献
第7章集成光学器件的材料
7.1集成光学器件用材料的共同要求
7.2半导体材料
7.3介质材料
7.4聚合物材料和玻璃材料
7.5磁性材料
习题
参考文献
第8章集成光学器件的主要制作工艺及平面介质光波导参量的测试
8.1薄膜淀积技术
8.2薄膜外延生长技术
8.3微细图形加工技术
8.4条形光波导及典型器件的制作
8.5光波导主要参量的测量
习题
参考文献
附录缩略语表
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