微光刻技术――科学与工艺（第三版）

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微光刻技术――科学与工艺（第三版）

作者:(美)布鲁斯·W.史密斯(Bruce W.Smith),(日)铃木和明(Kazuaki Suzuki) 主编王凯淇译

定价:298

出版社:电子工业出版社

出版日期:2026年08月01日

页数:636

装帧:平装

ISBN:9787121532368

●第1章光刻、刻蚀与硅晶工艺
1.1简介
1.2光刻技术基础
1.3光刻工艺与公差评估
1.4多重图形化与套刻优化
1.5反应离子刻蚀与沉积工艺
1.6极紫外光刻
1.7小结
参考文献
第2章光学纳米光刻
2.1简介
2.2成像理论：几何光学
2.3成像理论：波动光学
2.4图像评估
2.5成像像差和离焦
2.6光学材料和涂层
2.7光掩模与光掩模材料
2.8光学图像增强技术
2.9光学系统设计
2.10偏振与高数值孔径
2.11浸没式光刻
参考文献
第3章多重图形化光刻
3.1引言
3.2多重图形化技术中的设计交互
3.3多重图形化的形式
3.4小结
参考文献
……

内容介绍

本书全面系统地阐述了半导体制造的核心工艺——光刻技术的原理、材料、设备与工艺集成。第三版在前两版基础上进行了大幅更新，新增了浸没式光刻、极紫外光刻、多重图形化、计算光刻以及纳米压印等前沿内容，反映了自21世纪以来微纳加工技术的飞速发展。全书由多位国际很好专家撰写，涵盖光学成像理论、光刻胶化学、掩模设计、分辨率增强技术、工艺控制及未来技术路线图，兼具理论深度与工程实践价值，是面向学术界与工业界中对先进微纳制造技术有专业需求的高层次读者群体的重要权威著作。
本书既可作为微电子、材料科学和光学工程领域的研究生教材，也可作为集成电路制造工程师和科研人员的重要参考书。

(美)布鲁斯·W.史密斯(Bruce W.Smith),(日)铃木和明(Kazuaki Suzuki) 主编王凯淇译

布鲁斯·W.史密斯，美国罗切斯特理工学院杰出工程学教授，从事微电子和微系统工程的教学与研究工作超过35年。研究领域包括半导体加工、深紫外光刻技术、真空紫外光刻技术、浸没式和极紫外光刻技术、薄膜、光学和微电子材料。撰写了250多篇技术论文，举办了100多场技术讲座，并在国内和国际上获得了25项以上的专利。他获得过许多教学和研究奖项，包括电气与电子工程师学会卓越技术奖、美国真空学会卓越领导奖、光电仪器工程师学会研究指导奖，以及罗切斯特理工学院信托基金奖。史密斯教授是电气与电子工程师学会、美国光学学会和光电仪器工程师学会会员。铃木和明，在日本东京大学主修等离子体物理和X射线天文学，曾是尼康公司开发新......