文轩九月图书旗舰店店铺主页二维码
文轩九月图书旗舰店
特价好书,就在文轩网!
微信扫描二维码,访问我们的微信店铺

集成电路制造工艺与工程应用 第2版

99.00
运费: 免运费
库存: 72 件
集成电路制造工艺与工程应用 第2版 商品图0
集成电路制造工艺与工程应用 第2版 商品缩略图0

商品详情

集成电路制造工艺与工程应用 第2版

作  者:温德通 编
定  价:99
出 版 社:机械工业出版社
出版日期:2024年11月01日
页  数:296
装  帧:平装
ISBN:9787111764625

在审读温德通老师的《集成电路制造工艺与工程应用》一书的首版时,我对于他亲自绘制的数百幅工艺流程图印象深刻,并且深感佩服,这些图片在目前讲述集成电路工艺的教材中是看不到的,这也是我决定这本书一定要采用彩色印刷的原因。而且教材往往囿于知识体系的完整,不可能将具体的工艺流程如此详细地讲解,而我们在学习的时候,对于许多同类书所叙述的工艺流程总是仅限于名词的解释和空洞的描述,而温老师得益于他十多年在企业中的工作经验,弥补了这些不足,为读者奉上了这本佳作。 而此次的新版修订,作者与时俱进,增加了大量新工艺的流程3D彩图,并且对原版书的大量图片进行了重绘,并且配备了PPT和视频课程,方便读者阅读和学习,增加了这么多新内容,而且距离第1版的出版已经过去了6年,但是作者依然强烈要求不能涨价,因此新版依然维持了和第1版相同的价格。 作为同是微电子学专业的我,深知这样的书在编写上的难度,以及找寻愿意去写这样的书的作者有多难。本书的出现,相信一定会为集成电路领域做出很大的贡献!这个领域虽然小众,但是对于和传统教科书有所区别,具有鲜明特点和针对性的图书的需求,我一直相信是有的,而且很大。 在编写时,温老师数易其稿,并且力求简明和清晰,这不是一本大而全的教科书,但却是工艺方面难能可贵的参考资料,希望能收到各位半导体集成电路从业者的喜爱。正如温老师在扉页中所写的那句话一样:谨以此书,献给所有热爱半导体行业的朋友!

目录

第2版前言
专家推荐
写作缘由与编写过程——第1版前言
致谢
第1章引言
L.1崛起的CMOS工艺制程技术
1.1.1双极型工艺制程技术简介
1.1.2PMOS工艺制程技术简介
L.1.3NMOS工艺制程技术简介
1.1.4CMOS工艺制程技术简介
1.2特殊工艺制程技术
1.2.1BiCMOS工艺制程技术简介
1.2.2BCD工艺制程技术简介
1.2.3HV-CMOS工艺制程技术简介
1.3MOS集成电路的发展历史
1.4MOS器件的发展和面临的挑战
参考文献
第2章先进工艺制程技术
2.1应变硅工艺技术
2.1.1应变硅技术的概况
2.1.2应变硅技术的物理机理
2.1.3源漏嵌入SiC应变技术
2.1.4源漏嵌入SiGe应变技术
2.1.5应力记忆技术
2.1.6接触刻蚀阻挡层应变技术

内容介绍

本书以实际应用为出发点,抓住目前半导体工艺的先进工艺技术逐一进行介绍,例如应变硅技术、HKMG技术、SOI技术和FinFET技术。然后从工艺整合的角度,通过图文对照的形式对典型工艺进行介绍,例如隔离技术的发展、硬掩膜版工艺技术、LDD工艺技术、Salicide工艺技术、ESD IMP工艺技术、Al和Cu金属互连,并将这些工艺技术应用于实际工艺流程中,通过实例让大家能快速地掌握具体工艺技术的实际应用。本书旨在向从事半导体行业的朋友介绍半导体工艺技术,给业内人士提供简单易懂并且与实际应用相结合的参考书。本书也可供微电子学与集成电路专业的学生和教师阅读参考。

温德通 编

文轩九月图书旗舰店店铺主页二维码
文轩九月图书旗舰店
特价好书,就在文轩网!
扫描二维码,访问我们的微信店铺

集成电路制造工艺与工程应用 第2版

手机启动微信
扫一扫购买

收藏到微信 or 发给朋友

1. 打开微信,扫一扫左侧二维码

2. 点击右上角图标

点击右上角分享图标

3. 发送给朋友、分享到朋友圈、收藏

发送给朋友、分享到朋友圈、收藏

微信支付

支付宝

扫一扫购买

收藏到微信 or 发给朋友

1. 打开微信,扫一扫左侧二维码

2. 点击右上角图标

点击右上角分享图标

3. 发送给朋友、分享到朋友圈、收藏

发送给朋友、分享到朋友圈、收藏