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三维集成电路物理设计 艾达 托德里 萨尼亚尔 3D IC 3D 2.5D集成 先进封装 物理设计 AI芯片 光电子 MEMS 三维集成电路物理设计书

¥108.10
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三维集成电路物理设计 艾达 托德里 萨尼亚尔 3D IC 3D 2.5D集成 先进封装 物理设计 AI芯片 光电子 MEMS 三维集成电路物理设计书 商品图0
三维集成电路物理设计 艾达 托德里 萨尼亚尔 3D IC 3D 2.5D集成 先进封装 物理设计 AI芯片 光电子 MEMS 三维集成电路物理设计书 商品缩略图0

商品详情

书名:三维集成电路物理设计
定价:159.0
ISBN:9787111817529
作者:[阿尔巴尼亚] 艾达·托德里-萨尼亚尔(Aida Todri-Sanial)[马
版次:1
出版时间:2026-09

内容提要:


本书系统地讨论了3D IC的物理设计,来自学术界、研究实验室和工业界的一批杰出专家在每一章

中针对具体的物理设计主题进行了深入阐述。本书共17章,分为4个部分:第1部分共包含4章,

首先概述传统2D电路面临的物理设计挑战;第2部分共包含4章,主要讨论3D集成的物理设计方法;

第3部分共包含5章,主要讨论3D集成的可靠性问题;第4部分共包含4章,

主要讨论3D物理设计的CAD设计工具和未来发展方向。


  专门讲解3D IC物理设计的书籍很少,本书是一本全面分析3D IC物理设计的书籍,

非常适合从事电子、光电子、MEMS及AI等领域中关于3D集成技术工作的工程师、

科研人员和技术管理人员阅读,也可以作为高等院校相关专业高年级本科生和研究生的教材和参考用书。






目录:


译者序

原书前言

致谢

编著者介绍

第1部分3D集成概述

第1章2.5D/3D IC驱动因素、技术、应用和展望2

1.1背景与引言2

1.2驱动因素3

1.2.1系统性能的可持续增长3

1.2.2技术瓶颈及3D集成的解决方案4

1.2.3异构性7

1.33D IC的技术方案8

1.3.1分类8

1.3.2单片方法8

1.3.3组装方法9

1.3.4ITRS对3D互连技术的定义13

1.4技术平台和技术路线15

1.4.1承载晶圆键合16

1.4.2晶圆背面减薄17

1.4.3垂直通孔和凸点形成17

1.4.4对准18

1.4.5键合18

1.4.6承载晶圆剥离20

1.4.72.5D硅中介层21

1.4.8演示样品21

1.5应用、现状和展望26

1.5.1硅光子学27

1.5.2ITRS 2.027

致谢28

参考文献28

第2章3D集成电路物理设计问题概述30

2.1引言30

2.23D物理设计面临的挑战概述30

2.33D电源传输网络面临的挑战与解决方案31

2.43D时钟传输网络面临的挑战与解决方案31

2.53D布局和布线面临的挑战与解决方案32

2.63D布局规划面临的挑战与解决方案32

2.7TSV尺寸设计和布局面临的挑战与解决方案33

2.8总结与结论33

参考文献33

第3章锥形TSV电学和可靠性的详细研究37

3.1引言37

3.2锥形TSV:制造过程中的必然结果39

3.2.1TSV制造39

3.2.2锥度效应的根源40

3.2.3实际制造中的TSV锥度效应40

3.3锥形TSV的双向延迟40

3.4锥形TSV的直流电流密度和热仿真41

3.5锥形TSV的热机械应力仿真43

3.5.1物理尺寸和仿真设置44

3.5.2TSV锥度效应对KOZ的影响45

3.6锥形TSV的电迁移仿真47

3.6.1TSV电迁移方程47

3.6.2锥形TSV的电迁移仿真结果47

3.7TSV锥度效应对CAD工具的影响48

3.8结论49

致谢49

参考文献49

第4章3D互连提取51

4.1引言51

4.2TSV间耦合提取53

4.2.1双TSV模型与多TSV模型53

4.2.2硅衬底和电场分布的影响55

4.2.3TSV间耦合对整个芯片噪声的影响59

4.2.4整个芯片中TSV间耦合的抑制方案63

4.3TSV与互连线耦合提取67

4.3.1电场共享影响67

4.3.2图形匹配技术70

4.3.3TSV与互连线耦合对整个芯片噪声的影响73

4.3.4整个芯片中TSV与互连线耦合抑制75

4.4结论78

参考文献79

第2部分3D集成的物理设计方法

第5章3D布局与布线82

5.1引言82

5.23D布局84

5.2.1基于TSV集成84

5.2.23D单片集成89

5.33D布线90

5.3.1门级布线90

5.3.2芯片级布线92

5.4总结与结论97

参考文献97

第6章3D片上系统中的电源与信号完整性挑战101

6.1引言101

6.2TSV技术及其对电源/信号完整性的影响102

6.2.1先通孔TSV技术104

6.2.2中通孔TSV技术104

6.2.3后通孔TSV技术105

6.3系统级3D电源完整性105

6.3.1研究实例:九平面3D处理器-DRAM堆叠中的电源分配106

6.3.2电源栅控3D IC的去耦电容109

6.4系统级3D信号完整性114

6.4.1TSV与晶体管噪声耦合的高效分析115

6.4.2研究实例:3D集成SoC的信号完整性分析119

6.5总结与结论122

参考文献122

第7章基于TSV的3D时钟网络设计方法127

7.1引言127

7.23D时钟树综合 129

7.2.1设计流程129

7.2.2基于3D-MMM的CTS130

7.2.3基于MMM-3D和NN-3D的CTS131

7.2.4层嵌入134

7.2.5布线135

7.3面向键合前可测性的时钟树综合 135

7.3.1基础知识135

7.3.2键合前可测性主要问题136

7.3.3键合前可测试的3D

时钟树137

7.3.4其他问题138

7.4时钟TSV容错技术 141

7.4.1基础知识141

7.4.2冗余TSV方法141

7.4.3先进TSV容错技术143

7.4.4其他问题145

7.5容错技术及其他151

7.5.1热变化感知的CTS151

7.5.2TSV应力感知的CTS152

7.5.3封装感知的CTS153

7.5.4障碍感知的CTS158

7.6结论161

参考文献161

第8章3D电源传输网络的设计方法164

8.1引言164

8.1.13D PDN的电源和热完整性问题165

8.1.2前期工作166

8.2预备知识167

8.3验证性实验168

8.3.1在3D IC中复用优化的2D PDN169

8.3.2由于非均匀电压降和温度上升导致的电路面积增加170

8.43D PDN分析170

8.4.1电学建模与分析170

8.4.2热建模与分析172

8.53D PDN优化方法175

8.5.13D PDN独立优化177

8.5.23D PDN和TSV尺寸协同优化179

8.6实验182

8.6.1优化参数α的影响182

8.6.2相同和不同裸芯片的影响188

8.6.3设计约束的影响189

8.7结论192

参考文献193

第3部分3D集成的可靠性问题

第9章生死存亡:3D集成电路的可靠性设计196

9.13D IC设计中的可靠性问题196

9.2备用TSV和容错结构199

9.2.1双TSV技术199

9.2.2共享备用TSV技术199

9.3设计约束202

9.3.1芯片良率约束202

9.3.2时序约束203

9.3.3TSV布局204

9.4信号TSV的容错性206

9.4.1假设与问题表述206

9.4.2算法207

9.4.3实验结果214

9.5时钟网络的容错性216

9.5.13D时钟网络可靠性挑战216

9.5.2TSV容错单元218

9.6结论229

参考文献232

第10章3D堆叠系统的热建模和管理235

10.1引言235

10.2热建模236

10.2.13D堆叠系统的热建模236

10.2.2全系统仿真与热建模的集成238

10.2.3主动冷却的热建模239

10.3热管理241

10.3.1任务分配与迁移242

10.3.2通过硬件控制手段进行热管理244

10.3.3主动冷却的3D堆叠系统管理246

10.4总结与结论248

参考文献249

第11章3D集成电路热设计空间的探索251

11.1引言251

11.2设计参数的重要性252

11.3探索流程253

11.3.1TSV拓扑探索253

11.3.2热导率估算254

11.3.3热仿真255

11.4实验装置与验证255

11.5探索结果257

11.5.1热导率的影响257

11.5.2裸芯片厚度和堆叠深度的影响261

11.5.3功率密度的影响263

11.6结论264

致谢264

参考文献264

第12章3D多核系统的动态热优化266

12.1引言与动机266

12.2相关工作268

12.3问题定义与背景269

12.3.1热优化与管理269

12.3.2温度相关故障269

12.4在3D NoC中的基于DPN的热优化271

12.4.1使用动态规划的最短路径计算271

12.4.2基于DPN的3D NoC布线273

12.4.3无死锁性和自适

应性274

12.4.4DP与3D NoC耦合278

12.4.5DP网络收敛时间和复杂性279

12.53D NoC动态热建模280

12.5.1流量模型281

12.5.2面积和功耗模型281

12.5.3热模型281

12.6结果与讨论282

12.6.1实验设置与工具282

12.6.2温度结果283

12.6.3可靠性提升288

12.6.4性能结果289

12.6.5实际应用基准测试290

12.6.6硬件实现292

12.7总结与结论295

参考文献295

第13章TSV与器件噪声分析及抑制技术298

13.1TSV与器件噪声评估299

13.1.1建模框架300

13.1.2TSV噪声耦合比较:FinFET与平面晶体管304

13.1.3主要观察结果305

13.2TSV与器件噪声抑制技术305

13.2.1评估框架306

13.2.2噪声抑制技术307

13.2.3噪声抑制技术比较310

13.3结论310

参考文献311

第4部分CAD设计工具和3D物理设计的未来发展方向

第14章3D CAD设计工具概述316

14.13D设计阶段的工具318

14.2Advanc3D319

14.32D设计阶段的工具321

14.42D验证阶段的工具322

14.53D验证阶段的工具323

14.6结论325

参考文献325

第15章单片3D IC的设计挑战和解决方案327

15.1引言327

15.2单片3D IC制造328

15.3单片3D设计挑战与机遇332

15.4单片3D SRAM设计332

15.5晶体管级单片3D IC设计333

15.6门级单片3D IC设计335

15.7模块级单片3D IC设计339

15.8结论342

参考文献342

第16章无TSV的3D/2.5D IC高速互连设计344

16.1引言344

16.2利用电感耦合的3D IC高速互连344

16.2.1收发器设计及其信号传输方案345

16.2.2电感设计与实现347

16.2.3总结350

16.3利用电容耦合的3D IC高速互连351

16.3.1电容耦合互连建模352

16.3.2对准352

16.3.3串扰354

16.3.4收发器设计355

16.3.5总结358

16.4基于硅中介层的2.5D IC的高速互连359

16.5总结360

参考文献360

第17章3D物理设计面临的挑战和未来发展方向363

17.13D电路的主要挑战和解决方案回顾364

17.1.1工艺技术挑战364

17.1.2设计挑战370

17.23D电路和设计的未来发展方向380

17.2.1路径查找:系统级设计探索与评估380

17.2.2设计方法和标准化382

17.2.33D电路的验证平台与原型开发385

17.3总结与结论387

参考文献387



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