内容介绍
本书共分10章，系统阐述了各种真空镀膜技术的基本概念、工作原理和应用，真空镀膜机的结构、设计计算，蒸发源，磁控靶的设计计算，薄膜厚度的测量技术，薄膜与表面分析检测技术；书中还介绍了近年来出现的新型薄膜材料石墨烯的制备方法和应用等方面的内容。
本书理论与实际应用结合，可作为真空技术与工程、薄膜与表面应用、材料工程、应用物理以及与真空镀膜技术相关专业的教材，也可供相关领域的技术人员参考。
商品详情
真空镀膜技术与设备(第2版)
作 者:张以忱 编
定 价:49
出 版 社:冶金工业出版社
出版日期:2021年08月01日
页 数:316
装 帧:平装
ISBN:9787502488802
目录
●1真空蒸发镀膜
1.1概述
1.2真空蒸发镀膜基础理论
1.2.1真空蒸发镀膜的物理过程
1.2.2蒸发镀膜的真空条件
1.2.3真空镀膜的蒸发条件
1.2.4膜材的蒸发速率
1.2.5残余气体对膜层的影响
1.2.6蒸镀粒子在基片上的沉积
1.3蒸发源
1.3.1电阻加热式蒸发源
1.3.2电子束加热蒸发源
1.3.3感应加热式蒸发源
1.3.4空心热阴极电子束蒸发源
1.3.5激光加热蒸发源
1.3.6电弧加热蒸发源
本章小结
思考题
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