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后石墨烯材料的制备与应用开发精讲
在后石墨烯时代,二维纳米片材料凭借独特的理化性能,成为集成电路、新能源、光电子、环境工程等领域的前沿研究热点,也是新一代功能材料突破发展的核心方向。《后石墨烯材料的制备与应用开发精讲》作为该领域的权威译作,立足国际前沿研究成果,系统梳理二维纳米片材料全链条技术体系,是兼具理论深度与实践价值的专业佳作。 本书由日本名古屋大学柚原淳司担任主编,集结早稻田大学、东京工业大学、东北大学、丰田中央研究所等数十所高校、科研机构及企业的一线专家联合编著,原著版权归属日本知名专业出版社 NTS Inc.,汇聚了全球多年深耕后石墨烯材料领域的研究经验与前沿数据,内容经过大量实验验证与理论推演,学术权威性与行业参考价值十足。全书由专业译者精准翻译,依托正规版权引进流程出版,内容严谨、表述规范,忠实还原原著核心观点与技术细节。 全书分为三大篇章共八章,构建了基础理论 — 制备工艺 — 产业应用的完整知识框架。第一部分详解 Ⅳ 族单原子层、过渡金属二硫属化物等材料的本征物性、电子理论与光学特性,搭配 AFM、光电子能谱、TRHEPD 等主流结构解析技术,夯实理论根基;第二部分聚焦各类新型二维材料、纳米片的合成、剥离、成膜与转移技术,涵盖真空制备、化学合成、旋涂加工等多元工艺,详解不同体系材料的制备难点与优化方案;第三部分落地产业场景,全面介绍材料在电子器件、光子学、能源存储、环境分离、催化等领域的落地应用与技术探索,打通基础研究与产业化之间的壁垒。书中不仅梳理了硅烯、锗烯、磷烯、硼烯等单元素二维材料的研发历程,也深入剖析化合物二维纳米片的技术特性,完整展现后石墨烯材料的发展脉络与未来趋势。 本书内容兼顾理论讲解、实验方法与工程应用,适配多类读者群体。首先面向材料科学、凝聚态物理、微电子、新能源等专业的高校师生与科研人员,可作为课题研究、论文撰写、实验开展的重要参考工具书;其次适合集成电路、光电子、新材料、环保能源等行业的研发工程师与技术从业者,能够帮助其快速掌握前沿材料制备工艺与落地应用方案;同时也可供对二维纳米材料、前沿新材料领域感兴趣的爱好者阅读学习。 在后石墨烯材料产业化加速推进的当下,这本书完整呈现国际前沿技术动向,既有扎实的理论支撑,又有丰富的实操案例,是入门深造、技术攻关、行业研究的优质读物。
目录
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序 二维纳米片材料的技术动向与展望
第1篇 基础物性与结构分析技术
第1章 基础物性
第1节 Ⅳ主族单原子层的电子理论
1 引言
2 硅烯和锗烯的电子理论
3 具有原子缺陷和原子置换的Ⅳ主族单原子膜
第2节 TMD的电子物理性质——从半导体到超导体
1 TMD(Transition-metal dichalcogenide)
2 2H型——Ⅵ副族TMD:半导体特性
3 2H型——Ⅴ副族TMD:金属和超导体特性
4 1T'型——Ⅵ副族TMD——拓扑材料
5 关于理论分析方法
6 TMD的面内异质结构
第3节 单层TMD中的光学性质和能谷物理性质
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