电力半导体新器件及其制造技术(电力电子新技术系列图书/涉及功率二极管、晶闸管及其集成器件(包括GTO、IGCT、ETO及MTO)、功率MOSFET、绝缘栅双极型晶体管(IGBT)等)
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商品详情
商品基本信息 | |
商品名称: | 电力半导体新器件及其制造技术 |
作者: | 王彩琳 |
市场价: | 99.00 |
ISBN号: | 9787111475729 |
出版社: | 机械工业出版社 |
目录 | |
序言 前言 第1章绪论1 11电力半导体器件概述1111与电力电子技术关系1 112定义与分类3 12发展概况6 121电力半导体器件的发展6 122制造技术的发展10 参考文献13 第2章功率二极管14 21普通功率二极管14211结构类型14 212工作原理与I-U特性15 213静态与动态特性17 22快速软恢复二极管24 221结构类型25 222软恢复的机理及控制28 23功率肖特基二极管35 231结构类型与制作工艺36 232工作原理与I-U特性38 233静态特性39 24功率二极管的设计43 241普通功率二极管的设计43 242快速软恢复二极管的设计45 243功率肖特基二极管的设计47 25功率二极管的应用与失效分析48 251安全工作区及其限制因素48 252失效分析51 253特点与应用范围53 参考文献54 第3章晶闸管及其集成器件57 31普通晶闸管结构57311结构类型57 312工作原理与特性60 313静态与动态特性65 32门极关断晶闸管(GTO)76 321结构概述76 322工作原理与特性79 323静态与动态特性82 324硬驱动技术86 33集成门极换流晶闸管(IGCT)88 331结构特点88 332工作原理与I-U特性92 333静态与动态特性97 334关键技术及其原理100 335驱动电路与特性参数111 34其他集成器件116 341发射极关断晶闸管(ETO)116 342MOS关断晶闸管(MTO)119 35晶闸管的设计122 351设计方法概述122 352超高压晶闸管的设计125 353大电流GTO的设计128 354IGCT的设计131 36晶闸管的应用可靠性与失效分析136 361普通晶闸管的失效分析136 362GTO的可靠性与失效分析138 363IGCT的可靠性与失效分析142 364晶闸管的特点与 应用范围149 参考文献150 第4章功率MOSFET155 41功率MOSFET的结构类型及特点155411基本结构156 412横向结构158 42功率MOSFET的工作原理与特性159 421等效电路159 422工作原理与特性参数160 423静态与动态特性167 43超结MOSFET180 431基本结构及等效电路181 432派生结构182 433静态与动态特性185 44功率MOSFET的设计190 441纵向结构的设计190 442横向结构的设计191 45功率MOSFET的应用可靠性与失效分析194 451应用可靠性194 452失效分析196 453特点与应用范围201 参考文献201 第5章绝缘栅双极型晶体管(IGBT)205 51普通IGBT205511结构特点与典型工艺205 512工作原理与I-U特性211 513静态与动态特性218 52注入增强型IGBT234 521结构特点与典型工艺234 522工作原理与注入增强效应238 523静态与动态特性242 53集成化IGBT245 531逆阻IGBT245 532双向IGBT247 533逆导IGBT249 534双模式IGBT253 535超结IGBT254 54IGBT的设计257 541纵向结构的设计257 542横向结构的设计260 543防闩锁的设计264 55IGBT的应用可靠性与失效分析266 551可靠性266 552失效分析273 553应用与发展趋势280 参考文献282 第6章功率集成技术287 61功率集成技术简介287611功率集成概念287 612功率集成形式287 613功率集成意义288 62功率集成电路289 621概述289 622电场调制技术290 623横向高压器件292 624隔离技术308 625设计技术314 626发展与应用范围318 63功率模块320 631概述320 632基本构成321 633封装技术325 634特能与可靠性333 635失效分析与安全性339 636发展趋势341 参考文献342 第7章电力半导体器件的结终端技术347 71常见的结终端技术347711平面结终端技术347 712台面结终端技术352 713结终端特性的表征357 714结终端的制作工艺358 72常用结终端结构359 721功率二极管的结终端结构360 722MOS型浅结器件的结终端结构361 723晶闸管的结终端结构363 724HVIC的结终端结构365 73结终端结构的设计366 731概述366 732浅结器件复合结终端的设计369 733深结器件复合结终端的设计372 参考文献376 第8章电力半导体器件的制造技术380 81概述380811发展概况380 812主要制造技术内容381 82衬底材料制备技术382 821硅衬底382 822SOI衬底384 83基本制造工艺385 831热氧化385 832热扩散388 833离子注入398 834光刻与刻蚀403 835化学气相淀积410 836物理气相淀积413 837背面减薄工艺414 838PIC典型工艺415 84寿命控制技术417 841少子寿命417 842吸杂技术419 843辐照技术421 844应用举例426 85硅-硅直接键合技术429 851技术特点429 852键合的机理与方法430 853应用举例432 86封装技术438 861中小功率器件的封装438 862大功率器件的封装441 参考文献443 第9章电力半导体器件的应用共性技术449 91电力半导体器件的驱动电路449911概述449 912电流驱动450 913电压驱动453 92电力半导体器件的串并联技术455 921概述455 922功率二极管的串并联456 923普通晶闸管的串并联458 924GTO的串并联460 925IGCT的串并联462 926IGBT模块的串并联465 93电力半导体器件的过应力保护469 931概述469 932保护元器件473 933吸收电路476 934保护电路477 935软开关技术485 94电力半导体器件的热传输与热分析486 941功耗486 942热传输与热阻488 943热分析493 95电力半导体器件的合理使用496 951可靠性496 952有效保护497 953降额使用498 参考文献498 第10章电力半导体器件的数值分析与仿真技术500 101数值分析方法5001011概述500 1012电特性仿真502 1013热特性仿真504 102MEDICI软件使用实例506 1021使用方法506 1022仿真实例508 103ISE软件使用实例519 1031DIOS模块519 1032MDRAW模块523 1033DESSIS模块533 104ANSYS软件使用实例542 1041软件介绍543 1042分析实例544 参考文献554 |
内容简介 | |
本书介绍了电力半导体器件的结构、原理、特性、设计、制造工艺、可靠性与失效机理、应用共性技术及数值模拟方法。内容涉及功率二极管、晶闸管及其集成器件[(包括GTO晶闸管、集成门极换流晶闸管(IGCT))]、功率MOSFET、绝缘栅双极型晶体管(IGBT),以及电力半导体器件的功率集成技术、结终端技术、制造技术、共性应用技术、数值分析与模拟技术。重点对GTO的单位电流增益、IGCT的透明阳极和波状基区,功率MOSFET的超结及IGBT的发射极电子注入增强(IE)等新技术进行了详细介绍。 |
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